PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
PVD镀膜技术的特点：
1、膜层与物件表面的结合力强，保色更加持久，耐磨性强
2、离子的绕射性能好，能够镀形状复杂的物件
3、膜层沉积速率快，生产效率高
4、可镀膜层颜色种类广泛
5、稳定性高、环保
PVD镀膜的整个工艺流程：QA品检—上挂—清洗—烘烤—电镀—出炉—下架—全检
问：请问什么是PVD镀膜？ 什么是PVD镀膜机？
答： PVD(物理的气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当先进的表面处理方法之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
主要意思是指在真空条件下，在真空状态注入氩气，氩气桩基靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。PVD镀膜技术主要分为：真空离子镀膜，真空溅射镀，真空离子镀膜。我们经常说的PVD镀膜就是指真空离子镀膜，近几年来，真空离子镀膜技术发展是最快的，它已经成为当今社会先进的表面处理方式之一。PVD镀出的膜层硬度高，耐磨性强，耐腐蚀性好，化学性稳定，而且膜层寿命长。
